中国科学院地球化学研究所机构知识库

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Creator：huangweiqi分黄伟其    Creator：刘世荣    First author    Community：矿床地球化学国家重点实验室    First author affiliation    The first author    Corresponding Author

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	氧化硅层厚度对Si/SiO2界面电子态结构与光学性质的影响 期刊论文 光子学报, 2023, 卷号: 52, 期号: 1, 页码: 228-239 Authors:  王安琛;  黄忠梅;  黄伟其;  张茜;  刘淳;  王梓霖;  王可;  刘世荣 Adobe PDF(3545Kb)  |  Favorite  |  View/Download：94/0  |  Submit date：2023/10/18
	纳米硅的脉冲激光制备与发光激活研究 成果 2016 Accomplishers:  黄伟其;  刘世荣 Favorite  |  View/Download：439/9  |  Submit date：2017/09/20
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